EFFITECH

NANOPULSE:
Un générateur pulsé à faible émission électromagnétique pour la production de plasma atmosphérique

La génération de plasma atmosphérique performant nécessite la production d’impulsions haute tension à fronts raides. Malheureusement la capacité totale C (de la connexion et de la tête plasma) doit être chargée et déchargée pour chaque impulsion avec des pertes en CV²F. (V : tension crête, F: cadence de répétition). La façon habituelle de limiter ces pertes est de réduire au mieux la distance générateur/tête plasma et d’effectuer la connexion avec un câble non blindé (afin d’éviter la capacité plus importante d’un câble coaxial)

L’architecture ‘'Nanopulse’’ d’EFFITECH permet d’éviter ces limitations : un câble coaxial d’une longueur quelconque peut relier le générateur à la tête plasma. De plus plusieurs types de formes d’onde peuvent être réalisées :

  1. Monopolaire (10 kV) ,
  2. Bipolaire (± 10 kV)
  3. Sinusoïde amortie (± 10 kV at 1.2 MHz)
  4. Impulsion ultra-courte(< 20 ns)

Un produit clef pour le traitement de surface et les applications médicales

Plasma_coating